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Fotovoltaico a film sottile: joint venture tra Sharp e Tokyo Electron

7 Aprile 2008 - Con la joint venture tra Sharp e Tokyo Electron la produzione di celle fotovoltaiche a film sottile della compagnia giapponese potrebbe arrivare già a 160 MW entro quest’anno.

 

E’ stata creata una joint venture tra Tokyo Electron, specializzata in semiconduttori, e Sharp per lo sviluppo di nuove tecnologie legate alla produzione di celle fotovoltaiche a film sottile. La nuova società, denominata Tokyo Electron PV, sarà di proprietà della Sharp per il 49% mentre il restante 51% resterà invece alla Tokyo Electron.

L’obiettivo di Tokyo Electron PV è di sviluppare e commercializzare un sistema per la vaporizzazione di sottilissimi strati di silicio per la produzione di celle fotovoltaiche a film sottile (plasma CVD systems) che, secondo le previsioni dei partner del progetto, dovrebbe incrementare i ritmi di produzione e abbassare i costi di questa tecnologia. In questo processo infatti si utilizzano minori quantità di silicio.

La joint venture rientra nei piani di potenziamento di Sharp nel settore fotovoltaico, tanto che la compagnia giapponese prevede di investire circa 136 milioni di euro per decuplicare la sua produzione di “thin film” entro ottobre 2008, portandola dagli attuali 15 MWp a 160 MWp.

L’obiettivo della Sharp, che nel 2007 ha registrato un lieve declino, perdendo il primato nella produzione di celle a vantaggio della tedesca Q-Cells e della cinese Suntech Power, è comunque molto più ambizioso: raggiungere i 1.000 MW entro il 2010 e riguadagnare la leadership anche in questo settore.  

 

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